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7935晶圓檢測系統

更新时间:2017-11-14

简要描述:

7935晶圓檢測系統
主要特色:
•Z大可檢測8“ 晶圓 (檢測區域達10“ 範圍 )
•可因應不同產業的晶粒更換或新增檢測項目
•上片後晶圓對位機制
•自動尋邊功能可適用於不同形狀之晶圓
•瑕疵規格編輯器可讓使用者自行編輯檢測規格

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7935晶圓檢測系統

主要特色:

  • zui大可檢測8" 晶圓 (檢測區域達10" 範圍 )
  • 可因應不同產業的晶粒更換或新增檢測項目
  • 上片後晶圓對位機制
  • 自動尋邊功能可適用於不同形狀之晶圓
  • 瑕疵規格編輯器可讓使用者自行編輯檢測規格
  • 影像辨識成功率高達 98%
  • 可結合上游測試機晶粒資料,合併後上傳至下一道製程設備
  • 提供檢測報表編輯器,使用者可自行選擇適用資料並進行分析
  • 適合LED、雷射二極體及影像感測器等產業

Chroma 7935晶圓檢測機為切割後自動化晶粒檢測機,使用先進的打光技術,可 以清楚的辨識晶粒的外觀瑕疵。結合不同的光源角度、亮度及取像模式,使得 7935可以適用於LED、雷射二極體及影像感測器等產業。

由於使用高速相機以及自行開發之檢測演算法,Chroma 7935可以針對特定瑕疵 項目在2分鐘內檢測完2"晶圓,換算為單顆處理時間為15 msec。7935同時也提供 了自動對焦與翹曲補償功能,以克服晶圓薄膜的翹曲與載盤的水平問題。7935可 配置不同倍率之物鏡,使用者可依晶粒或瑕疵尺寸選擇適當的檢測倍率。系統搭 配的zui小解析度為0.35um,一般來說,可以檢測1um左右的瑕疵尺寸。

系統功能
在擴膜之後,晶粒或晶圓可能會產生不規則的排列,7935也提供了搜尋及排列功 能以轉正晶圓。此外,7935擁有人性化的使用介面可降低學習曲線,所有的必要 資訊,如晶圓分佈,瑕疵區域,檢測參數及結果,均可清楚地透過UI呈現。

瑕疵資料分析
所有的檢測結果均會被記錄下來,而不僅只是良品/不良品的結果。這有助於找 出一組*參數,達到漏判與誤判的平衡點,瑕疵原始資料亦有幫助於分析瑕疵 產生之趨勢,並回饋給製程人員進行改善。

綜合上述說明,Chroma 7935是晶圓檢測製程考量成本與效能的*選擇。

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